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SST與GLOBALFOUNDRIES共同推出非易失性存儲器,實現(xiàn)低功耗、低成本、高可靠性

發(fā)布時間:2015-05-15 責任編輯:susan

【導讀】2015年5月15日,Microchip Technology Inc.(美國微芯科技公司)通過其全資子公司Silicon Storage Technology(SST)與GLOBALFOUNDRIES共同宣布,其共同推出的SST 55nm嵌入式SuperFlash® 非易失性存儲器(NVM)產(chǎn)品已通過全面認證并開始向市場供貨,該產(chǎn)品基于GLOBALFOUNDRIES 55nm低功耗強化型(LPx)/RF平臺。
 
根據(jù)全球知名信息咨詢公司IHS預測,2015年汽車半導體市場規(guī)模將達到310億美元,相比2014年增幅可高達7.5%。而基于嵌入式閃存的半導體產(chǎn)品則在這一市場占有相當大的比重。
   
Microchip全資子公司SST技術(shù)許可部副總裁Mark Reiten表示:“嵌入式SuperFlash存儲器事實上已成為各代工廠生產(chǎn)單片機、智能卡及各種系統(tǒng)級芯片的標準。與GLOBALFOUNDRIES的合作,為我們搭建先進的55nm嵌入式SuperFlash平臺帶來了巨大的技術(shù)優(yōu)勢,我們與各行業(yè)多個客戶的業(yè)務洽談也已經(jīng)在進行當中。我們非常高興可以和GLOBALFOUNDRIES攜手進一步鞏固公司在嵌入式閃存器件領(lǐng)域的市場領(lǐng)導地位。”
 

 
SST SuperFlash®技術(shù)與GLOBALFOUNDRIES 55nm LPx完美結(jié)合,實現(xiàn)低功耗、低成本、高可靠性、優(yōu)異數(shù)據(jù)保存性能和高耐用性兼具的卓越客戶解決方案。
 
GLOBALFOUNDRIES結(jié)合分離柵極單元SuperFlash技術(shù)的55nm工藝經(jīng)認證測試符合JEDEC標準。同時,這一工藝技術(shù)還滿足在-40°C至125°C的環(huán)境溫度范圍下AEC-Q100 1級認證標準,耐用性達到10萬次的擦寫周期,可實現(xiàn)150°C條件下超過20年的數(shù)據(jù)保存年限。
   
GLOBALFOUNDRIES產(chǎn)品管理高級副總裁Gregg Bartlett表示:“GLOBALFOUNDRIES意識到市場需要一款低成本的嵌入式閃存平臺產(chǎn)品來實現(xiàn)安全的ID、混合信號、NFC/RF及新一代IoT應用。得益于公司與SST的深入合作,這項基于GLOBALFOUNDRIES高產(chǎn)的55nm低功耗工藝技術(shù)平臺而實現(xiàn)的55nm SuperFlash合格商用技術(shù)將有助為各重點行業(yè)的客戶提供高性能的解決方案。”
   
配備eNVM技術(shù)的GLOBALFOUNDRIES 55nm LPx/RF平臺現(xiàn)已開始投放市場。該平臺技術(shù)備有一個自定義庫,包含針對特定MCU產(chǎn)品應用而優(yōu)化的現(xiàn)成eNVM IP模塊,是一款可大幅縮短產(chǎn)品開發(fā)周期的解決方案。
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